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HL-高效光亮氰化镀铜工艺
日期:2012-7-19 14:17:00    阅读:
HL-高效光亮氰化镀铜工艺
 
一、 性能特点
1. 镀层光亮平滑,结晶细致,孔隙率小;
2. 电流密度范围宽阔,覆盖能力极佳;
3. 杂质容忍度高,易于控制;
4. 适用于钢铁、铜、青铜等不同基体的工件,锌合金压铸件尤为适合;
5. 镀液可用氰化钾或氰化钠配制,效果同样理想。
二、 操作条件
    组成
范围
标准
氰化亚铜
(g/L)
铁件、铜件
30-50
(金属铜21-35)
40
(金属铜28)
锌合金
60-90
(金属铜42-63)
75
(金属铜52.5)
氰化钠
(g/L)
铁件、铜件
40-67
(游离氰7-12)
52.5
(游离氰9)
锌合金
80-120
(游离氰14-21)
100
(游离氰17)
氢氧化钠
(g/L)
铁件、铜件
5-10
5
锌合金
0-3
1
诺切液(ml/L)
30-50
40
HL-3(ml/L)
5-7
7
HL-4(ml/L)
5-7
5
温度
50-60℃
阴极电流密度A/dm2
0.5-4.0
搅拌
阴极摇摆
阳极
无氧电解铜,套阳极袋
过滤
连续过滤
三、 镀液配制
1. 注入1/4体积的水于已洗净的备用缸(或预备槽)中,加入计量所需的氢氧化钠、氰化钠,搅拌至完全溶解;
2. 在不断搅拌下加入所需的氰化亚铜,直至完全溶解,如在此过程中温度过高,需加入适量的水,使温度降到50℃左右;
3. 用过滤泵把镀液滤入清洁的电镀槽内,加水至所需的水位,搅拌均匀后取样分析,并调整各成分至所需范围;
4. 加温至50℃以上,连续过滤并用波浪状电解板电解镀液4小时以上;
5. 加入所需的添加剂,搅拌均匀后,便可以试镀。
四、 设备要求
1. 镀槽:低碳钢缸衬合适的塑料或其它认可的材料;
2. 温度控制:可用不锈钢电热笔加热,或其它认可的热交换器;
3. 循环过滤:过滤泵最少能在一小时内将镀液过滤四次。
五、添加剂作用和补充
氰化亚铜(CuCN):供给镀液铜离子的来源,当采用高电流密度时,金属含量也要提高。电流密度与铜含量、搅拌程度、游离氰化钠含量、温度和光亮剂含量等有有关。
氰化钠(NaCN):镀液中的游离氰化钠取决于铜含量,一般金属铜与游离氰化钠之比为3:1。当游离氰化钠偏低时,低电流密度区会起云雾;当游离氰化钠偏高时,阴极电流效率降低,上镀速度慢,同时阴极会有大量气体产生。
氢氧化钠(NaOH):可提高镀液的导电性。锌合金电镀时,宜保持1-3克/升,以免碱度太高而侵蚀锌合金;钢铁件电镀时,浓度可增加至10克/升。
诺切液:比酒石酸钾钠效果好,可减低阳极钝化,增加阳极电流效率和溶解速度,减少氰化物的使用量,减缓镀液中碳酸盐的生成;可提高阴极电流效率,使镀层细腻光滑,防止粗糙;可降低镀液受铬酸污染所引起的问题。通常是每添加5克/升的氰化亚铜,就添加1毫升/升的诺切液或者视阳极溶解状况适量补充。
HL-3:能使高电流密度区光亮,减低镀层出现针孔机会。含量偏低时,高电流区光泽不足;含量偏高时,镀层易在空气中氧化变色,阳极易钝化。日常添加按照75-125 毫升/千安培小时补充。
HL-4:与HL-3一起使用时,高低电流密度区同样光亮。含量偏低时,低电流区光泽不足;含量偏高时,高电流区发暗,镀层色泽变浅。日常添加按照225-375 毫升/千安培小时补充。 

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